一系列供应给半导体行业和太阳能源开发行业使用的高纯度特种化学品。
高性能腐蚀液
产品名称 | 特征 | 适用于 |
混酸铝 | 乙酸/硝酸/磷酸混合液 | Ai配线用 |
Au-Etchant | KI/I2混合液 | Au电极 Au Bump用 |
50%ACN | 50%硝酸（IV） 氨水溶液 | 鉻涂层用 |
ITO-Etchant | 高浸润性草酸水溶液 | ITO透明电极用 |
HHED | 混合液 | 聚酰亚胺，层间绝缘膜用 |
TWL-I & II | Ti膜或Ti/W合金膜选择蚀刻液 I: 过氧化氢制剂 II: 碱制剂 使用时混合 | Pb焊接-Bump工序用 |
TWL-I & II | 无铅Solder-Bump工序用 |
TWL-I & II | Al线的接地线（Ti/W）膜用 |
SWAT-200S | 含添加剂的氢氧化钠水溶液 | 抑制胶片表面不纯物金属离子的吸附，维护表面洁净 |
SWATch-300P | 添加剂的氢氧化钾溶液（添加剂种类不同） | 胶片制造，再生时抛光工序后的碱处理，洗涤用 |
KOH-40S | 浆料pH值调整用 |
SUN-X1200 | 具有晶体结构形成能力的氢氧化钾溶液 | 太阳能电池用 |
高纯度，高性能有机酸系洗净剂
产品名称 | 特征 | 适用于 |
CA-HP-02 | 高纯度 2%柠檬酸溶液 | 各种洗涤剂用添加剂，原料不纯物金属离子去除用洗涤剂 （胶片制造，再生工程） |
CA-HP-10 | 高纯度 10%柠檬酸溶液 |
CA-HP-30 | 高纯度 30%柠檬酸溶液 |
WCA-30S | 高纯度，高浸润性 |
CIREX | 高纯度，高性能柠檬酸溶液 最适用于去除不纯物金属离子 | 去除不纯物金属离子用 洗净剂 Al-CMP用后洗净剂 W-CMP用后洗净剂 |
CIREX-C15 |
CLEAN-100 | 高纯度，高性能柠檬酸溶液 颗粒和不纯物金属离子经一次洗涤即可同时去除 | CMP用后洗涤剂 适合去除Cu-CMP后不纯物金属离子的洗涤剂 Cu/low-k CMP用后洗净剂 |
CAX-200 |
CLEAN-200LK |
CLEAN-300LK |
WCP-1000 （Acid Type）酸性 | 高性能洗净剂 | CMP用后洗净剂 最适用于去除各种缺陷失误 Cu/low-k CMP用后洗净剂 |
WCP-2000 (AlkalineType)碱性 |
高性能非离子表面活性剂
产品名称 | 特征 | 适用于 |
NCW-1001 | 低温使用 | 改善溶液浸润性用的添加剂 |
NCW-1002 | 低粘性 | 各种工具用的洗净剂 |
高纯度，高性能过氧化氢水
产品名称 | 特征 | 适用于 |
HQ | 高纯度级别，不纯物金属离子含量：max. 0.1ppb | RCA洗涤液用 各种蚀刻液原料 |
HIRINPER-HP | 高纯度级别，不纯物金属离子含量：max. 0.1ppb 能有效抑制金属离子的吸附和污染 | 利用本液可同时洗涤去除RCA（APM）溶液中的颗粒和不纯物金属离子 |
HIRINPER-SP |
有机光电材料，合成用试剂 OrganicElectronics
Boronic Acid | Phenanthroline |
Azulene，Tropplone | Anthraquinone |
Diphenylamine | Fluorene，Dibenzothiophene，Carbazole |
Biphenyl，Arylamine，Arylhalide | Polycyclic AromaticHydrocarbons |
Qninoline，Isoquinoline | DeuteratedChemicalCompound |
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